六氟化硫是一種無(wú)機化合物，化學(xué)式為SF?，常溫常壓下為無(wú)色無(wú)臭無(wú)毒不燃的穩定氣體，六氟化硫分子結構呈八面體排布，鍵合距離小、鍵合能高，因此其穩定性很高，在溫度不超過(guò)180℃時(shí)，它與電氣結構材料的相容性和氮氣相似。

電子級高純六氟化硫是一種理想的電子蝕刻劑，廣泛應用于微電子技術(shù)領(lǐng)域，用作電腦芯片、液晶屏等大型集成電路制造中的等離子刻蝕及清洗劑。還可用作氮準分子激光器的摻加氣體。在氣象、環(huán)境檢測及其他部門(mén)用作示蹤劑、標準氣或配制標準混合氣。

在高壓開(kāi)關(guān)中用作滅弧和大容量變壓器絕緣材料。也可用于粒子加速器及避雷器中。此外還作為一種反吸附劑從礦井煤塵中置換氧。

可用于有色金屬的冶煉和鑄造工藝，也可用于鋁及其合金熔融物的脫氣和純化。在微電子業(yè)中，可用六氟化硫蝕刻硅表面并去除半導體材料上的有機或無(wú)機膜狀物，并可在光導纖維的制造過(guò)程中，作為單膜光纖隔離層摻雜劑。

六氟化硫由于其化學(xué)穩定性好和對設備不腐蝕等特點(diǎn)，在冷凍工業(yè)上可用作冷凍劑（操作溫度－45~0℃之間）。由于對α粒子有高度的停止能力，還用于放射化學(xué)。

在高壓開(kāi)關(guān)中用作滅弧和大容量變壓器絕緣材料。也可用于粒子加速器及避雷器中。此外還作為一種反吸附劑從礦井煤塵中置換氧。

可用于有色金屬的冶煉和鑄造工藝，也可用于鋁及其合金熔融物的脫氣和純化。在微電子業(yè)中，可用六氟化硫蝕刻硅表面并去除半導體材料上的有機或無(wú)機膜狀物，并可在光導纖維的制造過(guò)程中，作為單膜光纖隔離層摻雜劑。

六氟化硫由于其化學(xué)穩定性好和對設備不腐蝕等特點(diǎn)，在冷凍工業(yè)上可用作冷凍劑（操作溫度－45~0℃之間）。由于對α粒子有高度的停止能力，還用于放射化學(xué)。