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40L六氟化硫
40L sf6

      一、相對分子質(zhì)量

 

  相對分子質(zhì)量:146.050.419.2(按2009年國際相對原子質(zhì)量計算)

 

  二、工業(yè)六氟化硫國標

 

  工業(yè)六氟化硫 高純六氟化硫 國標 GB/T 16483-2008

 

    三、價(jià)格

 

  六氟化硫價(jià)格:面議

 

  四、六氟化硫用途

 

  六氟化硫是一種無(wú)色、無(wú)臭、無(wú)毒、不燃的惰性氣體,它的分子量為146.07,在20℃和0.1 MPa時(shí)密度為6.1kg/m3,約為空氣密度的5倍。六氟化硫在常溫常壓下為氣態(tài),其臨界溫度為45.6℃,三相點(diǎn)溫度為-50.8℃,常壓下升華點(diǎn)溫度為-63.8℃。六氟化硫分子結構呈八面體排布,鍵合距離小、鍵合能高,因此其穩定性很高,在溫度不超過(guò)180℃時(shí),它與電氣結構材料的相容性和氮氣相似。二氧化碳的重量比空氣重,不助燃,因此許多滅火器都通過(guò)產(chǎn)生二氧化碳,利用其特性滅火。而二氧化碳滅火器是直接用液化的二氧化碳滅火,除上述特性外,更有滅火后不會(huì )留下固體殘留物的優(yōu)點(diǎn)。

 

  化學(xué)性質(zhì)穩定。微溶于水、醇及醚,可溶于氫氧化鉀。不與氫氧化鈉、液氨及鹽酸起化學(xué)的反應。

 

  1、新一代超高壓絕緣介質(zhì)材料。作為良好的氣體絕緣體,被廣泛用于電子、電氣設備的氣體絕緣。電子級高純[六氟化硫]是一種理想的電子蝕刻劑,廣泛應用于微電子技術(shù)領(lǐng)域,用作電腦芯片、液晶屏等大型集成電路制造中的等離子刻蝕及清洗劑。在光纖制備中用作生產(chǎn)摻氟玻璃的氟源,在制造低損耗優(yōu)質(zhì)單模光纖中用作隔離層的摻雜劑。還可用作氮準分子激光器的摻加氣體。在氣象、環(huán)境檢測及其他部門(mén)用作示蹤劑、標準氣或配制標準混合氣。在高壓開(kāi)關(guān)中用作滅弧和大容量變壓器絕緣材料。也可用于避雷器中。利用其化學(xué)穩定性好和對設備不腐蝕等特點(diǎn),在冷凍工業(yè)上可用作冷凍劑(操作溫度-45~0℃之間)。由于對α粒子有高度的停止能力,還用于放射化學(xué)。此外還作為一種反吸附劑從礦井煤塵中置換氧。

 

  2、可用于有色金屬的冶煉和鑄造工藝,也可用于鋁及其合金熔融物的脫氣和純化。在微電子業(yè)中,可用[六氟化硫]蝕刻硅表面并去除半導體材料上的有機或無(wú)機膜狀物,并可在光導纖維的制造過(guò)程中,作為單膜光纖隔離層摻雜劑。加有[六氟化硫]的電流遮斷器額定電壓高,且不易燃燒,另外,[六氟化硫]還用于超高壓蓄電器、同軸電纜和微波傳輸的絕緣介質(zhì)。目前[六氟化硫]是應用較為廣泛的測定大氣污染的示蹤劑,示蹤距離可達100km。[六氟化硫]化學(xué)穩定性好,對設備不腐蝕,在冷凍工業(yè)中可作為冷凍劑(操作溫度在-45~0℃之間),作制冷劑替代氟利昂,對臭氧層完全沒(méi)有破壞作用,符合環(huán)保和使用性能的要求,是一種很有發(fā)展潛力的制冷劑。用作電氣絕緣介質(zhì)和滅弧劑,測定大氣污染程度的示蹤劑。

 

  3、主要用于高壓開(kāi)關(guān)中滅弧,在大容量變壓器和高壓電纜中作為絕緣材料使用??稍诒芾灼鱔射線(xiàn)設備中作為氣體的絕緣材料,利用SF6化學(xué)穩定性好,對設備不腐蝕,在冷凍工業(yè)中可作為冷凍劑(操作溫度在-45~0℃之間),SF6對α-粒子有高度的停止能力,故在放射化學(xué)中也有應用;也可作為一種反吸附劑從礦井煤塵中置換氧。

 

  4、用作電子設備和雷達波導的氣體絕緣體。

 

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